Korean Tech: EUV Glass Patent Approved

<p>Das Unternehmen hat das Patent für eine neue Technologie zur Herstellung von Glasplatten für die EUV-Photolithografie erfolgreich angemeldet. Das Verfahren nutzt ein Vakuumabscheidungsverfahren (VAD) und anschließende Wärmebehandlung, um flache, gasfreie Glasplatten ohne Blei zu produzieren.</p><p>Die neue Technologie ist entscheidend für die Fertigung von Photomasken in der EUV-Photolithografie, einem Prozess, der zur Herstellung von extrem kleinen Transistoren in modernen Chips verwendet wird. Die Glasschichten müssen extrem präzise sein und sich bei Hitze kaum verformen, um die Genauigkeit der Chip-Fertigung zu gewährleisten.</p><p>Das Unternehmen hat bereits ein Prototypenmodell entwickelt und ist derzeit mit dem Aufbau eines Produktionsunternehmens für diese Materialien beschäftigt. Es wird erwartet, dass das Unternehmen in Zukunft auch andere Kunden anlockt und seine Technologie weiterentwickelt.</p><p>Die Quellen geben keine weiteren Details über den aktuellen Stand der deutschen Internetinfrastruktur in Südkorea oder spezifische Lieferverträge mit deutschen Firmen an.</p>